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LFE
Lithographie par faisceau d'électrons
Lithographie par faisceau électronique
Lithographie par projection de faisceau d'électrons
Lithographie par projection de faisceau électronique
Lithographie par projection électronique
Lithographie à faisceau d'électrons
Lithographie à faisceau électronique
Lithographie électronique
Lithographie électronique de projection
Lithographie électronique par projection
Masquage par faisceau d'électrons
Masquage électronique
électromasquage

Traduction de «Lithographie par projection de faisceau d'électrons » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
lithographie par projection de faisceau d'électrons | lithographie par projection de faisceau électronique | lithographie par projection électronique | lithographie électronique par projection | lithographie électronique de projection

electron beam projection lithography | electron projection lithography | EPL | projection electron lithography


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electron beam lithography | EBL | e-beam lithography


lithographie par faisceau électronique [ lithographie par faisceau d'électrons | électromasquage | masquage électronique | masquage par faisceau d'électrons ]

electron-beam lithography [ EBL | e-beam lithography | electronic lithography ]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
La Commission européenne a autorisé l'État néerlandais à verser à la société Mapper Lithography B.V 15,6 millions € en prêts à taux réduit et 5,7 millions € en aide directe, afin qu'elle développe la lithographie par faisceau d'électrons.

The European Commission has authorised The Netherlands to grant €15.6 million of soft loans and a direct grant of €5.7 million to Mapper Lithography B.V, for the development of 'E-beam lithography'.


Elle mène des recherches dans la technologie dite de «l'écriture par faisceau parallèle d'électrons sans masque» («maskless parallel electron beam writing» ou en abrégé «E-beam») destinée à servir aux machines de lithographie.

It is developing so-called 'maskless parallel electron beam writing' (in short: 'E-beam') technology that could be used in lithography machines.


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