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Clicheur en lithographie
Clicheuse en lithographie
Contremaître à la lithographie offset
Contremaîtresse à la lithographie offset
Lithographie
Lithographie EUV
Lithographie UV extrême
Lithographie aux ultraviolets extrêmes
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Lithographie à faisceau d'ions focalisé
Lithographie à faisceau d'ions focalisés
Lithographie à faisceau ionique focalisé
Lithographie électronique de projection
Lithographie électronique par projection
Masquage par faisceau d'électrons
Masquage électronique
électromasquage

Traduction de «lithographie » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
lithographie par ultraviolets extrêmes | lithographie aux ultraviolets extrêmes | lithographie ultraviolet extrême | lithographie UV extrême | lithographie EUV | lithographie par rayons X mous

extreme ultraviolet lithography | extreme UV lithography | EUV lithography | soft X-ray lithography


lithographie par faisceau d'ions focalisé | lithographie par faisceau d'ions focalisés | lithographie par faisceau ionique focalisé | lithographie à faisceau d'ions focalisé | lithographie à faisceau d'ions focalisés | lithographie à faisceau ionique focalisé

focused ion beam lithography | FIBL | FIB lithography


lithographie par projection de faisceau d'électrons | lithographie par projection de faisceau électronique | lithographie par projection électronique | lithographie électronique par projection | lithographie électronique de projection

electron beam projection lithography | electron projection lithography | EPL | projection electron lithography


lithographie par faisceau électronique [ lithographie par faisceau d'électrons | électromasquage | masquage électronique | masquage par faisceau d'électrons ]

electron-beam lithography [ EBL | e-beam lithography | electronic lithography ]




lithographie EUV

extreme ultraviolet lithography | EUVL [Abbr.]






clicheur en lithographie [ clicheuse en lithographie ]

lithographic platemaker


contremaître à la lithographie offset [ contremaîtresse à la lithographie offset ]

offset lithography foreman [ offset lithography forewoman ]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
Nous avons examiné la lithographie et nous avons nous-mêmes des installations de lithographie.

We have looked at litho and we have litho plans ourselves.


[34] Voir, par exemple, les participations minoritaires acquises récemment par Telefónica dans Telecom Italia, par Air France dans Alitalia, par Intel dans ASML, un fabricant de systèmes de lithographie pour l’industrie des semi-conducteurs, par Marine Harvest dans Grieg Seafood ou par VW dans Suzuki.

[34] See for example the minority stakes recently acquired by Telefónica in Telecom Italia, by Air France in Alitalia, by Intel in ASML, a manufacturer of lithography systems for the semiconductor industry, by Marine Harvest in Grieg Seafood or by VW in Suzuki.


18. Le plomb comme activateur dans la poudre fluorescente (maximum 1 % de plomb en poids) des lampes à décharge utilisées comme lampes de bronzage contenant des luminophores tels que BaSi2O5:Pb (BSP) ou utilisées comme lampes spéciales pour la reprographie par procédé diazoïque, la lithographie, les pièges à insectes, les procédés photochimiques et de durcissement, contenant des luminophores tels que (Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb (SMS).

18. Lead as activator in the fluorescent powder (1 % lead by weight or less) of discharge lamps when used as sun tanning lamps containing phosphors such as BSP (BaSi2O5:Pb) as well as when used as speciality lamps for diazo-printing reprography, lithography, insect traps, photochemical and curing processes containing phosphors such as SMS ((Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb).


Le plomb comme activateur dans la poudre fluorescente (maximum 1 % de plomb en poids) des lampes à décharge utilisées comme lampes de bronzage contenant des luminophores tels que BaSi2O5:Pb (BSP) ou utilisées comme lampes spéciales pour la reprographie par procédé diazoïque, la lithographie, les pièges à insectes, les procédés photochimiques et de durcissement, contenant des luminophores tels que (Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb (SMS).

Lead as activator in the fluorescent powder (1 % lead by weight or less) of discharge lamps when used as sun tanning lamps containing phosphors such as BSP (BaSi2O5:Pb) as well as when used as speciality lamps for diazo-printing reprography, lithography, insect traps, photochemical and curing processes containing phosphors such as SMS ((Sr,Ba)2MgSi2O7:Pb).


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La lithographie constitue l'une des étapes les plus importantes de la fabrication des circuits intégrés.

Lithography is one of the most important steps in the fabrication of integrated circuits.


La recherche sera centrée sur: une variété de techniques avancées pour la fabrication à l'échelle nanométrique (techniques faisant appel à la lithographie ou à la microscopie); des technologies et des méthodes hautement innovantes et les instruments associés exploitant les propriétés d'auto-assemblage de la matière et permettant le développement de machines à l'échelle nanométrique.

Research will focus on: a variety of advanced techniques for nano-scale manufacture (lithography or microscopy based techniques); breakthrough technologies, methodologies or instruments exploiting the self-assembling properties of matter and developing nano-scale machines.


La Commission autorise un projet de recherche allemand sur la lithographie extrême ultraviolet

Commission approves German research project on Extreme Ultraviolet Lithography


La Commission a décidé de ne pas s'opposer à l'octroi d'une subvention de 120 millions de DEM (soit 60 millions d'euros) en faveur d'un projet allemand de recherche conjointe d'une durée de cinq ans portant sur la lithographie extrême ultraviolet (EUV).

The European Commission decided to raise no objections on a grant of DEM 120 million (€ 60 million) for a German five year co-operative research project on extreme ultraviolet lithography (EUV).


Cette aide a pour objet d'encourager la participation de l'Allemagne à un projet Eureka commun visant à développer la lithographie EUV en Europe, qui pourrait renforcer la position des fournisseurs européens sur le marché des semi-conducteurs en leur permettant d'acquérir un savoir-faire et des droits de propriété intellectuelle.

The purpose of the aid is to promote the German participation to a joint Eureka project aiming at the development of EUV lithography technologies in Europe, that could strengthen the position of the European semiconductor industry suppliers through the development of know-how and intellectual property.


- gravures, estampes et lithographies originales; il s'agit d'épreuves tirées en nombre limité directement en noir ou en couleurs, d'une ou plusieurs planches entièrement exécutées à la main par l'artiste quelle que soit la technique ou la matière employée, à l'exception de tout procédé mécanique ou photomécanique (code NC 9702 00 00),

- original engravings, prints and lithographs, being impressions produced in limited numbers directly in black and white or in colour of one or of several plates executed entirely by hand by the artist, irrespective of the process or of the material employed by him, but not including any mechanical or photomechanical process (CN code 9702 00 00),


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