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Magnétron
Magnétron accordé en tension
Magnétron commandé en tension
Magnétron en régime pulsé
Magnétron pulsé
Magnétron à accord par la tension
Magnétron à cavités
Magnétron à impulsions
Magnétron à ondes progressives
Orbite magnétron
Projection de plasma provenant d'un magnétron
émetteur à magnétron

Traduction de «magnétron » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
magnétron à impulsions [ magnétron pulsé | magnétron en régime pulsé ]

pulsed magnetron


magnétron à accord par la tension [ magnétron accordé en tension | magnétron commandé en tension ]

voltage-tunable tube [ voltage-tunable magnetron | injected-beam magnetron | voltage-tuned magnetron ]


magnétron à cavités [ magnétron à ondes progressives ]

cavity magnetron [ multicavity magnetron | traveling-wave magnetron ]












projection de plasma provenant d'un magnétron

magnetron plasma sputtering
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
(2) Tout four à micro-ondes doit, lorsque l’enceinte externe est enlevée et que ses commandes internes et externes sont réglées pour donner le maximum de puissance de sortie, fonctionner de façon que le rayonnement de fuite, lorsque mesuré avec l’instrument prescrit à l’alinéa (3)b) et la charge d’épreuve prescrite à l’alinéa (3)a) dans la cavité, en tout point situé au moins à 5 cm de chaque pièce mécanique ou électronique du four accessible à l’utilisateur, notamment, le guide d’ondes, la cavité, le joint de la cavité, le magnétron et l’aire du magnétron à la connexion du guide d’ondes, ne dépasse pas 5,0 mW/cm .

(2) Every microwave oven shall, when the outer enclosure is removed and it is operating with its service controls and user controls adjusted to yield the maximum output, function in such a manner that the leakage radiation, measured with the instrument prescribed by paragraph (3)(b) and with the test load prescribed by paragraph (3)(a) in the cavity, at all points at least 5 cm from every mechanical or electronic part of the oven that is accessible to the user of the oven including, but not limited to, the waveguide, cavity, cavity seam, magnetron and magnetron to waveguide connection, does not exceed 5.0 mW/cm .


Le tableau se réfère uniquement au dépôt par triode, par magnétron ou par pulvérisation cathodique, qui est utilisé pour augmenter l'adhérence du revêtement et la vitesse de dépôt, et au dépôt par pulvérisation cathodique amélioré par radiofréquence, utilisé pour permettre la vaporisation de matériaux de revêtement non métalliques.

The Table refers only to triode, magnetron or reactive sputter deposition which is used to increase adhesion of the coating and rate of deposition and to radio frequency (RF) augmented sputter deposition used to permit vaporisation of non-metallic coating materials.




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magnétron ->

Date index: 2022-10-04
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