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Beam of electrons
E-beam pattern generator
EB drying
EBDS
EPG
Electron beam
Electron beam color-film recording
Electron beam colour-film recording
Electron beam dry scrubbing
Electron beam drying
Electron beam evaporation
Electron beam sterilizer
Electron beam welder
Electron beam welding machine
Electron-beam evaporation
Electron-beam mask generator
Electron-beam maskmaker
Electron-beam pattern generator
Electron-beam tube
Electron-beam valve
Electronic beam
Electronic bombardment welding machine
Mask generator electron-beam machine

Traduction de «electron beam drying » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
EB drying | electron beam drying

séchage sous faisceaux d'électrons | séchage EB


electron beam dry scrubbing | EBDS [Abbr.]

épuration à sec au faisceau électronique


electron-beam pattern generator [ e-beam pattern generator | electron-beam maskmaker | mask generator electron-beam machine ]

masqueur électronique [ électrocomposeur | composeur électronique ]


electron-beam pattern generator | EPG | electron-beam maskmaker | electron-beam mask generator

électrocomposeur


electron-beam evaporation [ electron beam evaporation ]

évaporation par faisceau électronique [ évaporation par faisceau d'électrons ]


electron beam welder [ electron beam welding machine | electronic bombardment welding machine ]

machine à souder par bombardement électronique [ machine à souder par faisceau d'électrons | machine à souder à faisceau d'électrons | machine de soudage par bombardement électronique ]


Electron beam sterilizer

stérilisateur par faisceau d’électrons


electron-beam valve | electron-beam tube

tube à faisceau électronique


beam of electrons | electron beam | electronic beam

faisceau d'électrons | faisceau électronique | rayons électroniques


electron beam color-film recording | electron beam colour-film recording

enregistrement sur film en couleur par faisceau électronique
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


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