RAC proposed to exempt from the restriction photographic coatings applied to films, papers or printing plates, implantable medical devices and substances or mixtures used in semiconductor and photolithography processes, considering the relatively low environmental impact and long substitution timeframes.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-06-12]

Le CER a proposé d'exclure de la restriction les revêtements appliqués dans la photographie aux films, aux papiers ou aux clichés d'impression, les dispositifs médicaux implantables et les substances ou mélanges utilisés dans des procédés photolithographiques ou de fabrication de semi-conducteurs, compte tenu de l'incidence relativement faible sur l'environnement et de la longueur des délais de substitution.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-06-12]

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-06-12]

(a) photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes; and

http://laws-lois.justice.gc.ca (...) (...) [HTML] [2014-09-25]

a) les résines photosensibles ou revêtements antireflets pour les procédés photolithographiques;

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photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2009-12-31]

résines photosensibles ou revêtements antireflet pour les procédés photolithographiques;

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2009-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2009-12-31]

photoresists or anti-reflective coatings for photolithography processes.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2009-06-21]

résines photosensibles ou revêtements antireflet pour les procédés photolithographiques.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2009-06-21]

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2009-06-21]

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a. Photolithography: Studies estimate that the substitution process of PFOS in photolithography would take a minimum of 3-4 years.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

(a) Photolithographie: selon certaines études, le processus de substitution des SPFO en photolithographie prendrait au moins 3 ou 4 ans.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2006-10-23]

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-24]

(a) résines photosensibles ou revêtements anti-reflet pour les procédés photolithographiques,

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-24]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2006-10-24]

(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes until ., provided that they are used in controlled closed systems in accordance with Commission Directive 2001/59/EC andwhere the concentration of PFOS released into the environment and the workplace is less than 1µg per kg of the PFOS used in the system.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

(a) résines photosensibles ou revêtements anti-reflet pour les procédés photolithographiques jusqu'au.*, sous réserve qu'elles soient utilisées dans des systèmes fermés contrôlés conformément à la directive 2001/59/CE de la Commissionoù la concentration de SPFO rejetés dans l’environnement et dans le milieu de travail est inférieure à 1µg par kg des SPFO utilisés dans le système.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2006-10-23]

As far as other exceptions such as photolithography processes and anti-reflective coating and industrial treatments for photographic film are concerned, the quantities in question are very small.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

En ce qui concerne les autres dérogations prévues pour les procédés photolithographiques, les revêtements anti-reflet et les revêtements appliqués dans la photographie industrielle aux films, les quantités utilisées sont très faibles.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2006-10-23]

- photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes,

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

- résines photosensibles ou revêtements anti-reflet pour les procédés photolithographiques

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2006-10-23]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2006-10-23]

Using nano- and micro-technology, one can enhance the surfaces using a photolithography process.

http://www.parl.gc.ca/content/ (...) (...) [HTML]

À l'aide de la nanotechnologie et de la microtechnologie, nous pouvons améliorer les surfaces au moyen d'un processus photolithographique qui ne nécessite aucun nanomatériau.

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