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Analyse etched work
Bite first
Dry etching
Dry plasma etching
Etching first
Flat etch
Flat etching
Handle chemicals for etching
Handle etching chemical products
Handle etching chemicals
Inductively coupled argon plasma spect
Inductively coupled plasma emission spectroscopy
Inductively-coupled plasma-atomic emission spectroscopy
Inspect etched work
Inspect etchings
Inspect work of etching
Plasma etch
Plasma etching
Plasma etching and deposition
Polish tools used for etching
Pre-etching
Prepare etching workpieces
Prepare workpieces for etching
Prepare workpieces to etch
Use chemical agents for etching

Traduction de «plasma etching » (Anglais → Français) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
plasma etching [ dry plasma etching | dry etching ]

gravure au plasma [ décapage au plasma ]




plasma etching and deposition

gravure et dépôt par plasma


plasma etching and deposition

gravure et dépôt par plasma




handle chemicals for etching | use chemical agents for etching | handle etching chemical products | handle etching chemicals

manipuler des produits chimiques de gravure


analyse etched work | inspect work of etching | inspect etched work | inspect etchings

inspecter une gravure


polish tools used for etching | prepare workpieces to etch | prepare etching workpieces | prepare workpieces for etching

préparer des pièces à graver à l'eau-forte


flat etch | flat etching | bite first | etching first | pre-etching

morsure préliminaire | première morsure


inductively-coupled plasma-atomic emission spectroscopy [ inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy | inductively coupled plasma optical emission spectroscopy | inductively coupled plasma emission spectroscopy | inductively coupled argon plasma emission spectroscopy | inductively coupled argon plasma spect ]

spectroscopie d'émission avec plasma induit par haute fréquence [ SE/PIHF | spectroscopie d'émission de plasma induit par haute fréquence | spectroscopie d'émission avec plasma inductif HF | spectroscopie d'émission optique avec une source de plasma d'argon induit par haute fréquence ]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
(6) A change to machine-tools for working any material by removal of material by electro-chemical, electron beam, ionic-beam or plasma arc processes for dry-etching patterns on semiconductor materials of subheading 8486.20 from any other good of subheading 8486.20 or any other heading, except from heading 84.56 or more than one of the following:

(6) Un changement aux machines-outils travaillant par enlèvement de toute matière et opérant par procédés électrochimiques, par faisceaux d’électrons, par faisceaux ioniques ou par jet de plasma pour la gravure à sec du tracé sur les matières semi-conductrices de la sous-position 8486.20 de tout autre produit de la sous-position 8486.20 ou de toute autre position, sauf de la position 84.56 ou de plus d’un des éléments suivants :


c". Stored programme controlled" anisotropic plasma dry etching equipment, as follows:

c. équipements "à commande par programme enregistré" pour l'élimination par des méthodes sèches anisotropiques par plasma, comme suit:


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