Este tipo de litografía está considerada como una importante tecnología intermedia entre la actual tecnología de 193 nanómetros, que se agotará dentro de cuatro a seis años, y las futuras tecnologías de litografía ultravioleta extrema, que no estará disponibles hasta después del 2010.
Ce type de lithographie est considéré comme une technique intermédiaire importante entre la technique actuelle des 193 nanomètres, qui sera abandonnée dans un délai de quatre à six ans, et les techniques EUV futures, qui commenceront à être employées après 2010.
