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Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt en phase vapeur activé par plasma
Dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud
Dépôt en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt en phase vapeur assisté par un filament chaud

Traduction de «Dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
dépôt chimique en phase vapeur assisté par filament chaud | dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud | dépôt chimique en phase vapeur assisté par un filament chaud | dépôt en phase vapeur assisté par un filament chaud

hot-wire chemical vapor deposition | HWCVD | hot-wire CVD | hot-filament chemical vapor deposition | HFCVD | hot-filament CVD


dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma

plasma-enhanced chemical vapor deposition | PECVD | plasma-enhanced CVD | plasma-assisted chemical vapor deposition | plasma-assisted CVD | plasma-activated chemical vapor deposition | PACVD | plasma-activated CVD


réacteur de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma

plasma assisted chemical vapour deposition reactor
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.

CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.


2. dépôt en phase vapeur (PVD) par chauffage par résistance assisté par faisceau d'ions, qui fait appel à des sources de chauffage par résistance électrique en combinaison avec un (des) faisceau(x) d'ions convergents afin de produire un flux contrôlé et uniforme du matériau évaporé;

2. Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;


c. dépôt en phase vapeur par procédé chimique assisté ou amélioré par plasma; et

c. Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and




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Dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud ->

Date index: 2022-03-12
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