Boost Your Productivity!Translate documents (Ms-Word, Ms-Excel, ...) faster and better thanks to artificial intelligence!
https://pro.wordscope.com
https://blog. wordscope .com
Déposition en phase vapeur
Déposition en phase vapeur modifiée
Dépôt chimique en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur
Dépôt chimique phase vapeur
Dépôt en phase vapeur
Dépôt en phase vapeur par procédé chimique
Dépôt en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt en phase vapeur à l'intérieur
Dépôt à l'extérieur
Dépôt à l'intérieur
Dêpôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire
I. P.
MOCVD
Méthode CVD modifiée
Méthode MCVD
Méthode OVPO
Méthode de dépôt externe en phase vapeur
Méthode de dépôt interne en phase vapeur
Méthode modifiée de déposition intérieure
Méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
OVPO
Oxydation en phase vapeur externe
Procédé I. P. O.
Procédé M. C. D.
Procédé MOCVD
Procédé OVPO
Procédé d'oxydation en phase vapeur externe
Procédé de dépôt intérieur
Procédé de dépôt intérieur modifié
Procédé en phase vapeur modifié
Procédé extérieur
Procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur
Procédé interne
Procédé intérieur
Procédé intérieur modifié
Technique IVPO
évaporation sous vide

Traduction de «Dépôt en phase vapeur par procédé chimique » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
dépôt en phase vapeur par procédé chimique organométallique | MOCVD [Abbr.]

metal organic chemical vapour deposition | MOCVD [Abbr.]


déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique

chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]


dêpôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire

pulsating chemical vapour deposition | pulsating CVD


méthode de dépôt externe en phase vapeur | procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur | procédé d'oxydation en phase vapeur externe | procédé extérieur | oxydation en phase vapeur externe | dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur | dépôt en phase vapeur à l'extérieur | dépôt à l'extérieur | méthode O ...[+++]

outside vapor-phase oxidation process | outside vapor phase oxidation process | outside vapour phase oxidation process | OVPO process | outside vapour deposition process | outside vapor phase oxidation | outside vapour phase oxidation | OVPO | outside chemical vapor deposition | outside vapor deposition


méthode de dépôt interne en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur | procédé interne | procédé intérieur | dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur | dépôt en phase vapeur à l'intérieur | dépôt à l'intérieur | technique IVPO | procédé I. P. O. | I. P.

inside vapor-phase oxidation process | inside vapor phase oxidation process | inside vapour phase oxidation process | IVPO process | inside deposition process | inside vapour deposition process | inside vapor phase oxidation | inside vapour phase oxidation | IVPO | inside process | inside vapor deposition | inside vapour deposition | IVD | inside chemical vapor deposition


méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur modifié | méthode modifiée de déposition intérieure | procédé en phase vapeur modifié | procédé intérieur modifié | déposition en phase vapeur modifiée | méthode MCVD | procédé M. C. D. | méthode CVD modifiée

modified chemical vapor deposition process | modified chemical vapour deposition process | MCVD process | modified CVD method | modified inside vapor phase oxidation process | MCVD method | modified chemical vapor deposition | MCVD | modified chemical vapour deposition | modified inside vapour phase oxidation | MIVPO


dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [ MOCVD | procédé MOCVD | traitement métallo-organique par dépôt chimique en phase vapeur | dépôt en phase vapeur à partir de composés organométalliques ]

metal organic chemical vapor deposition [ MOCVD | metal-organic chemical vapor deposition | metal organic chemical vapour deposition | metalorganic CVD | organometallic chemical vapour deposition ]


évaporation sous vide [ dépôt en phase vapeur ]

vapor deposition [ vacuum evaporation | vapour deposition | vapor phase deposition ]


méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur [ procédé de dépôt intérieur modifié ]

modified CVD method [ modified inside vapor phase oxidation process | modified chemical inside vapor phase oxidation process ]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt ...[+++]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the sem ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de ...[+++]par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


For more results, go to https://pro.wordscope.com to translate your documents with Wordscope Pro!
les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt ...[+++]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the sem ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de ...[+++]par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs sont munis d'une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


h) "conservation": le fait d'utiliser des agents chimiques, de modifier le milieu ambiant ou d'utiliser d'autres procédés pendant la phase de transformation, afin d'empêcher ou de retarder la détérioration biologique ou physique des cellules ou des tissus.

(h) "preservation" means the use of chemical agents, alterations in environmental conditions or other means during processing to prevent or retard biological or physical deterioration of cells or tissues.


2. Après réduction, les sous-produits animaux doivent être portés à une température à cœur supérieure à 133 °C pendant au moins 20 minutes, sans interruption et à une pression (absolue) d'au moins 3 bars produite par de la vapeur saturée . Ce procédé peut être appliqué en tant que traitement unique ou en tant que phase de stérilisation antérieure ou postérieure au traitement.

2. After reduction the animal by-products must be heated to a core temperature of more than 133°C for at least 20 minutes without interruption at a pressure (absolute) of at least 3 bars produced by saturated steam ; the heat treatment may be applied as the sole process or as a pre- or post-process sterilisation phase.


w