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DL
Diode laser
Diode laser à semiconducteurs
Dépôt par laser pulsé
Hologramme réalisé avec un laser pulsé
LSC
Laser pulsé
Laser pulsé à grande puissance
Laser semiconducteur
Laser à impulsions
Laser à injection
Laser à jonction
Laser à semi-conducteur
Laser à semiconducteur
Laser à semiconducteurs
Opérateur sur machine à découper au laser
Opératrice sur machine à découper au laser
Système laser impulsionnel
Système laser pulsé
Système laser à impulsions
Technique laser pulsé
Technique laser à impulsions

Traduction de «Laser pulsé » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
système laser pulsé [ système laser à impulsions | système laser impulsionnel ]

pulsed laser system


laser pulsé [ laser à impulsions ]

pulsed laser [ pulse laser ]




laser pulsé à grande puissance

high-power pulse laser




technique laser à impulsions [ technique laser pulsé ]

pulsed-laser technique


dépôt par laser pulsé

pulsed laser deposition | PLD [Abbr.]


hologramme réalisé avec un laser pulsé

pulsed hologram


opératrice sur machine à découper au laser | opérateur sur machine à découper au laser | opérateur sur machine à découper au laser/opératrice sur machine à découper au laser

laser cutter production operator | laser cutting machine set-up operative | CNC laser set-up inspector | laser cutting machine operator


diode laser | DL | laser à injection | laser à jonction | laser à semiconducteur | LSC | laser à semi-conducteur | laser à semiconducteurs | LSC | diode laser à semiconducteurs | laser semiconducteur

laser diode | LD | laser-diode | semiconductor injection laser | semi-conductor injection laser | semiconductor laser | semi-conductor laser | injection laser | injection laser diode | ILD | junction diode laser | diode laser | semiconductor laser diode
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
Le paragraphe B.2.2.6.g) ne vise pas les lasers industriels à dioxyde de carbone de puissance plus élevée (typiquement de 1 à 5 kW) utilisés dans les applications telles que la découpe et le soudage puisque ces lasers fonctionnent soit en mode continu soit en mode pulsé avec une durée d’impulsion supérieure à 200 ns.

Paragraph B.2.2.6 (g) does not include the higher power (typically 1 kW to 5 kW) industrial CO lasers used in applications such as cutting and welding, as those lasers are either continuous wave or are pulsed with a pulse width of more than 200 ns.


h) lasers excimères en mode pulsé (XeF, XeCI, KrF) possédant toutes les caractéristiques suivantes :

(h) pulsed excimer lasers (XeF, XeCl, KrF) having all of the following characteristics:


g) lasers à dioxyde de carbone en mode pulsé possédant toutes les caractéristiques suivantes :

(g) pulsed carbon dioxide lasers having all of the following characteristics:


e) amplificateurs lasers et oscillateurs à colorants accordables fonctionnant en mode pulsé, à l’exception des oscillateurs fonctionnant en mode unique, et possédant toutes les caractéristiques suivantes :

(e) tunable pulsed dye laser amplifiers and oscillators, except single mode oscillators, having all of the following characteristics:


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d) oscillateurs lasers à colorants accordables fonctionnant en mode pulsé unique possédant toutes les caractéristiques suivantes :

(d) tunable pulsed single-mode dye laser oscillators having all of the following characteristics:


Chacune des trois règles générales suivantes devrait être appliquée à toutes les expositions répétitives dues à des systèmes de laser pulsé répétitif ou des systèmes de balayage laser:

Each of the following three general rules should be applied to all repetitive exposures as occur from repetitively pulsed or scanning laser systems:


Chacune des trois règles générales suivantes devrait être appliquée à toutes les expositions répétitives dues à des systèmes de laser pulsé répétitif ou des systèmes de balayage laser:

Each of the following three general rules should be applied to all repetitive exposures as occur from repetitively pulsed or scanning laser systems:


Chacune des trois règles générales suivantes devrait être appliquée à toutes les expositions répétitives dues à des systèmes de laser pulsé répétitif ou des systèmes de balayage laser:

Each of the following three general rules should be applied to all repetitive exposures as occur from repetitively pulsed or scanning laser systems:


3. vaporisation par "laser" qui utilise des faisceaux "lasers" pulsés ou en ondes entretenues pour vaporiser le matériau constituant le revêtement;

3". Laser" Vaporisation uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporise the material which forms the coating;




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Laser pulsé ->

Date index: 2021-01-19
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