(a) résines photosensibles ou revêtements anti-reflet pour les procédés photolithographiques jusqu'au.*, sous réserve qu'elles soient utilisées dans des systèmes fermés contrôlés conformément à la directive 2001/59/CE de la Commissionoù la concentration de SPFO rejetés dans l’environnement et dans le milieu de travail est inférieure à 1µg par kg des SPFO utilisés dans le système.
(a) photoresists or anti reflective coatings for photolithography processes until ., provided that they are used in controlled closed systems in accordance with Commission Directive 2001/59/EC andwhere the concentration of PFOS released into the environment and the workplace is less than 1µg per kg of the PFOS used in the system.
