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Déposition en phase vapeur
Dépôt chimique en phase gazeuse
Dépôt chimique en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt chimique phase vapeur
Dépôt de composés organométalliques en phase vapeur
Dépôt en phase vapeur
Dépôt en phase vapeur activé par plasma
Dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud
Dépôt en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt en phase vapeur assisté par un filament chaud
Dépôt en phase vapeur par procédé chimique
MOCVD
Méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
Procédé MOCVD
Procédé de dépôt intérieur modifié

Traduction de «dépôt chimique en phase gazeuse » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
dépôt chimique en phase gazeuse
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
gas-phase chemical deposit
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]
dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique en phase gazeuse | dépôt en phase vapeur
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
chemical vapor deposition | CVD | chemical vapour deposition | chemical gas phase deposition
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]
déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]
dépôt chimique en phase vapeur assisté par filament chaud | dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud | dépôt chimique en phase vapeur assisté par un filament chaud | dépôt en phase vapeur assisté par un filament chaud
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
hot-wire chemical vapor deposition | HWCVD | hot-wire CVD | hot-filament chemical vapor deposition | HFCVD | hot-filament CVD
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]
dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
plasma-enhanced chemical vapor deposition | PECVD | plasma-enhanced CVD | plasma-assisted chemical vapor deposition | plasma-assisted CVD | plasma-activated chemical vapor deposition | PACVD | plasma-activated CVD
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://gdt.oqlf.gouv.qc.ca/fic (...) [HTML] [2018-01-01]
dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [ MOCVD | procédé MOCVD | traitement métallo-organique par dépôt chimique en phase vapeur | dépôt en phase vapeur à partir de composés organométalliques ]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
metal organic chemical vapor deposition [ MOCVD | metal-organic chemical vapor deposition | metal organic chemical vapour deposition | metalorganic CVD | organometallic chemical vapour deposition ]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]
méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur [ procédé de dépôt intérieur modifié ]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
modified CVD method [ modified inside vapor phase oxidation process | modified chemical inside vapor phase oxidation process ]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) (...) [HTML] [2018-01-01]
http://www.btb.termiumplus.gc. (...) [HTML] [2018-01-01]
réacteur de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
plasma assisted chemical vapour deposition reactor
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]
dépôt de composés organométalliques en phase vapeur | dépôt de vapeur chimique de composés organométalliques | MOCVD [Abbr.]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
metal organic chemical vapor deposition | organometallic chemical vapour deposition | MOCVD,vapor = American English [Abbr.]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
http://iate.europa.eu/FindTerm (...) [HTML] [2017-12-31]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-c ...[+++]
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-12-31]
10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-12-31]
les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique ...[+++]
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]
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aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2017-12-31]
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Renforcement de la compétence technique des laboratoires bénéficiant d'un financement public, dans les États parties dont l'économie est en développement ou en transition, aux fins de l'analyse des substances chimiques concernées par la mise en œuvre de la CAC à l'échelle nationale, ainsi que de l'application de la chimie à des fins pacifiques au moyen de méthodes analytiques modernes, notamment la chromatographie en phase gazeuse (CPG) et la chromatographie en phase gazeuse/spectrométrie de m ...[+++]
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2015-02-16]
Enhanced level of technical competence in publicly funded laboratories in State Parties with developing economies or economies in transition to analyse chemicals related to national implementation of the CWC and in the peaceful application of chemistry using modern analytical methods especially gas chromatography (GC) and gas chromatography/mass spectrometry (GC-MS)
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2015-02-16]
https://eur-lex.europa.eu/lega (...) [HTML] [2015-02-16]
10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs sont munis d'une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]
les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique ...[+++]
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]
les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-c ...[+++]
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]
aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;
http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]
http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]
Le paragraphe 2B005 ne vise pas les équipements pour le dépôt chimique en phase vapeur, pour le dépôt par arc cathodique, pour le dépôt par pulvérisation cathodique, pour le placage ionique ou pour l'implantation ionique, spécialement conçus pour outils de coupe ou d'usinage.
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2003-01-26]
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2003-01-26]
http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2003-01-26]


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dépôt chimique en phase gazeuse ->

Date index: 2021-03-18
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