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CVD
Carbone depositato chimicamente allo stato di vapore
Deposizione CVD a bassa pressione
Deposizione CVD plasma-appogiante
Deposizione chimica da vapore
Deposizione chimica in fase vapore
Deposizione in fase vapore

Traduction de «CVD » (Italien → Français) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
deposizione chimica da vapore | deposizione chimica in fase vapore | deposizione in fase vapore | CVD

dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique en phase gazeuse | dépôt en phase vapeur


carbone depositato chimicamente allo stato di vapore | CVD,da chemical vapor deposited [Abbr.]

carbone CVD


deposizione CVD a bassa pressione

déposition par vapeur chimique à basse pression


deposizione CVD plasma-appogiante

déposition par vapeur chimique utilisant le procédé plasma
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
Se è vero che la Commissione ha preso nota dei risultati del panel su quanto segnalato, e concorda su numerose delle sue conclusioni, è anche vero che ciò non modifica né il trattato né la normativa, in particolare gli articoli 11.2 e 11.3 dell’Accordo dell’OMC sulle sovvenzioni e l’articolo 9, paragrafi 2 e 3, del regolamento sui dazi compensativi di base (regolamento CVD), che per la Commissione sono i punti di riferimento vincolanti in tutti i procedimenti.

Bien que la Commission ait pris acte des conclusions tirées par le groupe spécial dans ce rapport et ne s'oppose pas à un certain nombre d'entre elles, ces conclusions ne modifient pas le traité concerné, ni les dispositions juridiques applicables, notamment l'article 11, paragraphes 11.2 et 11.3, de l'accord SMC de l'OMC ou l'article 9, paragraphes 2 et 3, du règlement antisubventions de base, qui sont pertinents et contraignants pour la Commission dans toute procédure antisubvention.


c. CVD intensificata o assistita per mezzo di plasma e

c. dépôt en phase vapeur par procédé chimique assisté ou amélioré par plasma; et


a. apparecchiature di produzione per la deposizione in fase di vapore di elementi chimici (CVD) con "controllo a programma registrato" aventi tutte le caratteristiche seguenti:

a. équipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD), présentant les deux caractéristiques suivantes:


a. La deposizione in fase di vapore di elementi chimici (CVD) è un processo di rivestimento per ricopertura o rivestimento con modifica della superficie per cui un metallo, una lega, un materiale "composito", un dielettrico o una ceramica è depositato su uno strato riscaldato.

a) Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) est un procédé de revêtement par recouvrement ou revêtement par modification de surface par lequel un métal, un alliage, un matériau "composite", un diélectrique ou une céramique est déposé sur un substrat chauffé.


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la deposizione in fase di vapore di elementi chimici comprende i processi seguenti: deposizione fuori cassetta con flusso di gas diretto, deposizione in fase di vapore di elementi chimici ad impulsi (CVD), deposizione termica per nucleazione controllata (CNTD), deposizione in fase di vapore di elementi chimici migliorato a plasma o assistito da plasma.

Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.




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Date index: 2022-05-08
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