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Traduction de «Deposizione in fase di vapore di elementi chimici » (Italien → Français) :

TERMINOLOGIE
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deposizione in fase di vapore di elementi chimici ad impulsi

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dêpôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire

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deposizione chimica da fase vapore | deposizione in fase di vapore di elementi chimici | deposizione in fase vapore

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déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique

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deposito in fase di vapore di elementi chimici organo-metallici | MOCVD [Abbr.]

http://iate.europa.eu/FindTerm (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

dépôt en phase vapeur par procédé chimique organométallique | MOCVD [Abbr.]

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TRADUCTIONS EN CONTEXTE

le quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno immesso sul mercato dell’Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione ...[+++]

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie de ...[+++]

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idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un’impresa che li utilizza per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori.

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aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

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10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell’incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l’indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

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la quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno importato nell’Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adi ...[+++]

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les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé ...[+++]

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10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell'incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l'indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs sont munis d'une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]

la quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno importato nell'Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adi ...[+++]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé ...[+++]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) [HTML] [2014-03-11]

le quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno immesso sul mercato dell'Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione ...[+++]

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les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie de ...[+++]

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idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un'impresa che li utilizza per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori;

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la deposizione in fase di vapore di elementi chimici comprende i processi seguenti: deposizione fuori cassetta con flusso di gas diretto, deposizione in fase di vapore di elementi chimici ad impulsi (CVD), deposizione termica per nucleazione controllata (CNTD), deposizione in fase di vapore di elementi chimici migliorato a plasma o assistito da plasma.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2000-12-31]

Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) comprend les procédés suivants: dépôt hors caisse à flux de gaz dirigé, dépôt en phase vapeur par procédé chimique pulsatoire, dépôt thermique par nucléation contrôlée (CNTD), dépôt en phase vapeur par procédé chimique amélioré par plasma ou assisté par plasma.

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2000-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2000-12-31]

a. apparecchiature di produzione per la deposizione in fase di vapore di elementi chimici (CVD) con "controllo a programma registrato" aventi tutte le caratteristiche seguenti:

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2000-12-31]

a. équipements de production à "commande par programme enregistré" pour le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD), présentant les deux caractéristiques suivantes:

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) (...) [HTML] [2000-12-31]

http://eur-lex.europa.eu/legal (...) [HTML] [2000-12-31]

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