Traduction de «Processo di deposizione interna da fase vapore » (Italien → Anglais) :

TERMINOLOGIE
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processo di deposizione da fase vapore a tubo chiuso | processo di deposizione interna da fase vapore | processo di ossidazione in fase vapore interno | IVPO [Abbr.]

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deposizione chimica da fase vapore | deposizione in fase di vapore di elementi chimici | deposizione in fase vapore

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chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]

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strato prodotto mediante deposizione chimica da fase vapore

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layer produced by chemical vapor deposition

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TRADUCTIONS EN CONTEXTE

le quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno immesso sul mercato dell’Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione ...[+++]

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers ...[+++]

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idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un’impresa che li utilizza per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori.

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hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.

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10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell’incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l’indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

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10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.

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la quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno importato nell’Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica d ...[+++]

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the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour ...[+++] deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.

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le quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno immesso sul mercato dell'Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione ...[+++]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers ...[+++]

http://www.europarl.europa.eu/ (...) (...) [HTML] [2014-03-11]

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la quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno importato nell'Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica d ...[+++]

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the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour ...[+++] deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

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idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un'impresa che li utilizza per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori;

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hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;

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10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell'incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l'indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

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10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.

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Ora che il processo di riforma economica e sociale interna in Cina entra nella sua fase più difficile, cominciano a manifestarsi le enormi sfide che la Cina dovrà affrontare negli anni a venire.

https://eur-lex.europa.eu/lega (...) (...) [HTML] [2017-12-31]

As the process of internal economic and social reform in China enters its most difficult phase, the enormous challenges for China in the years to come are becoming more apparent.

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misurazioni continue dei seguenti parametri di processo: temperatura vicino alla parete interna o in un altro punto rappresentativo della camera di combustione, secondo quanto autorizzato dall'autorità competente, concentrazione di ossigeno, pressione, temperatura e tenore di vapore acqueo degli scarichi gassosi;

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continuous measurements of the following process operation parameters: temperature near the inner wall or at another representative point of the combustion chamber as authorised by the competent authority, concentration of oxygen, pressure, temperature and water vapour content of the waste gas;

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Date index: 2023-08-12