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Dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur
Dépôt en phase vapeur interne
Dépôt en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt en phase vapeur à l'intérieur
Dépôt à l'extérieur
Dépôt à l'intérieur
I. P.
IVPO
MOCVD
Méthode OVPO
Méthode de dépôt externe en phase vapeur
Méthode de dépôt interne en phase vapeur
Méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
OVPO
Oxydation en phase vapeur
Oxydation en phase vapeur externe
Oxydation en phase vapeur interne
Procédé I. P. O.
Procédé IVPO
Procédé MOCVD
Procédé OVPO
Procédé d'oxydation en phase vapeur externe
Procédé d'oxydation en phase vapeur interne
Procédé de cuisson en phase vapeur
Procédé de dépôt intérieur
Procédé de dépôt intérieur modifié
Procédé extérieur
Procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur
Procédé interne
Procédé intérieur
Technique IVPO

Traduction de «Procédé d'oxydation en phase vapeur interne » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
dépôt en phase vapeur interne | oxydation en phase vapeur interne | procédé d'oxydation en phase vapeur interne

inside vapour deposition process | inside vapour phase oxidation | inside vapour phase oxidation process | IV process | modified chemical vapour deposition process | IVPO [Abbr.]


oxydation en phase vapeur interne | procédé IVPO | IVPO [Abbr.]

inside vapor phase oxidation | inside vapour phase oxidation | IVPO [Abbr.]


méthode de dépôt externe en phase vapeur | procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur | procédé d'oxydation en phase vapeur externe | procédé extérieur | oxydation en phase vapeur externe | dépôt chimique en phase vapeur ...[+++]

outside vapor-phase oxidation process | outside vapor phase oxidation process | outside vapour phase oxidation process | OVPO process | outside vapour deposition process | outside vapor phase oxidation | outside vapour phase oxidation | OVPO | outside chemical vapor deposition | outside vapor deposition


oxydation en phase vapeur externe | procédé d'oxydation en phase vapeur externe

outside vapour deposition process | outside vapour phase oxidation | outside vapour phase oxidation process | OVPO [Abbr.]




méthode de dépôt interne en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur | procédé interne | procédé intérieur | dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur | dépôt en phase vapeur à l'intérieur | dépôt à l'intérieur | technique IVPO | procédé I. P. O. | I. P.

inside vapor-phase oxidation process | inside vapor phase oxidation process | inside vapour phase oxidation process | IVPO process | inside deposition process | inside vapour deposition process | inside vapor phase oxidation | inside vapour phase oxidation | IVPO | inside process | inside vapor deposition | inside vapour deposition | IVD | inside chemical vapor deposition


dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [ MOCVD | procédé MOCVD | traitement métallo-organique par dépôt chimique en phase vapeur | dépôt en phase vapeur à partir de composés organométalliques ]

metal organic chemical vapor deposition [ MOCVD | metal-organic chemical vapor deposition | metal organic chemical vapour deposition | metalorganic CVD | organometallic chemical vapour deposition ]


méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur [ procédé de dépôt intérieur modifié ]

modified CVD method [ modified inside vapor phase oxidation process | modified chemical inside vapor phase oxidation process ]


procédé de cuisson en phase vapeur

vapor phase pulping [ vapor-phase cooking process ]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’ind ...[+++]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs sont munis d'une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


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aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de v ...[+++]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'ind ...[+++]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


L’exploitant tient compte au minimum des sources potentielles d’émission de CO suivantes: combustion des combustibles fournissant la chaleur nécessaire pour le reformage ou l’oxydation partielle, combustibles utilisés pour alimenter le procédé de production d’ammoniac (reformage ou oxydation partielle), combustibles utilisés pour d’autres procédés de combustion, y compris aux fins de la production d’eau chaude ou de vapeur.

The operator shall include at least the following potential emission sources for CO emissions: combustion of fuels supplying the heat for reforming or partial oxidation, fuels used as process input in the ammonia production process (reforming or partial oxidation), fuels used for other combustion processes including for the purpose of producing hot water or steam.


L’exploitant tient compte au minimum des sources potentielles d’émission de CO suivantes: combustibles utilisés dans le procédé de production d’hydrogène ou de gaz de synthèse (reformage ou oxydation partielle) et combustibles utilisés dans d’autres procédés de combustion, y compris pour la production d’eau chaude ou de vapeur.

The operator shall include at least the following potential emission sources for CO emissions: fuels used in the hydrogen or synthesis gas production process (reforming or partial oxidation), and fuels used for other combustion processes including for the purpose of producing hot water or steam.


2. Après réduction, les sous-produits animaux doivent être portés à une température à cœur supérieure à 133 °C pendant au moins 20 minutes, sans interruption et à une pression (absolue) d'au moins 3 bars produite par de la vapeur saturée . Ce procédé peut être appliqué en tant que traitement unique ou en tant que phase de stérilisation antérieure ou postérieure au traitement.

2. After reduction the animal by-products must be heated to a core temperature of more than 133°C for at least 20 minutes without interruption at a pressure (absolute) of at least 3 bars produced by saturated steam ; the heat treatment may be applied as the sole process or as a pre- or post-process sterilisation phase.




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Procédé d'oxydation en phase vapeur interne ->

Date index: 2024-02-07
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