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Déposition en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur
Dépôt chimique phase vapeur
Dépôt en phase vapeur
Dépôt en phase vapeur activé par plasma
Dépôt en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt en phase vapeur interne
Dépôt en phase vapeur par procédé chimique
Dépôt en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt en phase vapeur à l'intérieur
Dépôt à l'extérieur
Dépôt à l'intérieur
I. P.
MOCVD
Méthode OVPO
Méthode de dépôt externe en phase vapeur
Méthode de dépôt interne en phase vapeur
Méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
OVPO
Oxydation en phase vapeur externe
Oxydation en phase vapeur interne
Procédé I. P. O.
Procédé MOCVD
Procédé OVPO
Procédé d'oxydation en phase vapeur externe
Procédé d'oxydation en phase vapeur interne
Procédé de dépôt intérieur
Procédé de dépôt intérieur modifié
Procédé extérieur
Procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur
Procédé interne
Procédé intérieur
Technique IVPO
évaporation sous vide

Traduction de «dépôt en phase vapeur interne » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
dépôt en phase vapeur interne | oxydation en phase vapeur interne | procédé d'oxydation en phase vapeur interne

inside vapour deposition process | inside vapour phase oxidation | inside vapour phase oxidation process | IV process | modified chemical vapour deposition process | IVPO [Abbr.]


déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique

chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]


méthode de dépôt interne en phase vapeur | procédé de dépôt intérieur | procédé interne | procédé intérieur | dépôt chimique en phase vapeur à l'intérieur | dépôt en phase vapeur à l'intérieur | dépôt à l'intérieur | technique IVPO | procédé I. P. O. | I. P.

inside vapor-phase oxidation process | inside vapor phase oxidation process | inside vapour phase oxidation process | IVPO process | inside deposition process | inside vapour deposition process | inside vapor phase oxidation | inside vapour phase oxidation | IVPO | inside process | inside vapor deposition | inside vapour deposition | IVD | inside chemical vapor deposition


méthode de dépôt externe en phase vapeur | procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur | procédé d'oxydation en phase vapeur externe | procédé extérieur | oxydation en phase vapeur externe | dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur | dépôt en phase vapeur à l'extérieur | dépôt à l'extérieur | méthode OVPO | procédé OVPO | OVPO

outside vapor-phase oxidation process | outside vapor phase oxidation process | outside vapour phase oxidation process | OVPO process | outside vapour deposition process | outside vapor phase oxidation | outside vapour phase oxidation | OVPO | outside chemical vapor deposition | outside vapor deposition


dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma

plasma-enhanced chemical vapor deposition | PECVD | plasma-enhanced CVD | plasma-assisted chemical vapor deposition | plasma-assisted CVD | plasma-activated chemical vapor deposition | PACVD | plasma-activated CVD


dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [ MOCVD | procédé MOCVD | traitement métallo-organique par dépôt chimique en phase vapeur | dépôt en phase vapeur à partir de composés organométalliques ]

metal organic chemical vapor deposition [ MOCVD | metal-organic chemical vapor deposition | metal organic chemical vapour deposition | metalorganic CVD | organometallic chemical vapour deposition ]


dépôt en phase vapeur par procédé chimique organométallique | MOCVD [Abbr.]

metal organic chemical vapour deposition | MOCVD [Abbr.]


évaporation sous vide [ dépôt en phase vapeur ]

vapor deposition [ vacuum evaporation | vapour deposition | vapor phase deposition ]


méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur [ procédé de dépôt intérieur modifié ]

modified CVD method [ modified inside vapor phase oxidation process | modified chemical inside vapor phase oxidation process ]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur ...[+++]par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


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les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur ...[+++]par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufactur ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs sont munis d'une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


41. À l’égard d’une demande PCT à la phase nationale déposée avant l’entrée en vigueur des présentes règles, le demandeur, soit se conforme aux exigences de l’article 37 des Règles sur les brevets dans leur version antérieure à l’entrée en vigueur des présentes règles, soit dépose une déclaration relative à son droit, à la date du dépôt international, de demander et d’obtenir un brevet, conformément à la règle 4.17 du Règlement d’e ...[+++]

41. In respect of a PCT national phase application filed before the coming into force of these Rules, the applicant must either comply with the requirements of section 37 of the Patent Rules as they read immediately before the coming into force of these Rules or file a declaration as to the applicant’s entitlement, as at the international filing date, to apply for and be granted a patent, in accordance with Rule 4.17 of the Regulations under the PCT.


9. se réjouit que le développement de l'application «e-Curia», permettant le dépôt et la signification des pièces de procédure par voie électronique, soit entré dans une phase test en 2010 avec deux États membres; «e-Curia» doit permettre à terme la suppression d'une grande partie des échanges de courrier, la numérisation des pièces de procédure entrantes et sortantes et l'optimisation des flux de travail internes;

9. Welcomes the fact that development of the ‘e-Curia’ application, enabling procedural documents to be lodged and served electronically, entered a test phase in 2010 with two Member States; e-Curia should in due course make it possible to do away with a large proportion of correspondence, digitise documents coming in and going out, and optimise internal work flows;


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