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Déposition en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur
Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt chimique phase vapeur
Dépôt en phase vapeur
Dépôt en phase vapeur activé par plasma
Dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud
Dépôt en phase vapeur assisté par plasma
Dépôt en phase vapeur assisté par un filament chaud
Dépôt en phase vapeur interne
Dépôt en phase vapeur par chauffage par résistance
Dépôt en phase vapeur par procédé chimique
Dépôt en phase vapeur à l'extérieur
Dépôt à l'extérieur
MOCVD
Méthode OVPO
Méthode de dépôt externe en phase vapeur
Méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur
OVPO
Oxydation en phase vapeur externe
Oxydation en phase vapeur interne
Procédé MOCVD
Procédé OVPO
Procédé d'oxydation en phase vapeur externe
Procédé d'oxydation en phase vapeur interne
Procédé de dépôt intérieur modifié
Procédé extérieur
Procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur
évaporation sous vide

Traduction de «Dépôt en phase vapeur par chauffage par résistance » (Français → Anglais) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
dépôt en phase vapeur par chauffage par résistance

resistive heating physical vapour deposition


déposition en phase vapeur | dépôt chimique en phase vapeur | dépôt chimique phase vapeur | dépôt en phase vapeur | dépôt en phase vapeur par procédé chimique

chemical vapor deposition | chemical vapour deposition | CVD [Abbr.]


méthode de dépôt externe en phase vapeur | procédé extérieur d'oxydation en phase vapeur | procédé d'oxydation en phase vapeur externe | procédé extérieur | oxydation en phase vapeur externe | dépôt chimique en phase vapeur à l'extérieur | dépôt en phase vapeur à l'extérieur | dépôt à l'extérieur | méthode OVPO | procédé OVPO | OVPO

outside vapor-phase oxidation process | outside vapor phase oxidation process | outside vapour phase oxidation process | OVPO process | outside vapour deposition process | outside vapor phase oxidation | outside vapour phase oxidation | OVPO | outside chemical vapor deposition | outside vapor deposition


dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma | dépôt en phase vapeur assisté par plasma | dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma | dépôt en phase vapeur activé par plasma

plasma-enhanced chemical vapor deposition | PECVD | plasma-enhanced CVD | plasma-assisted chemical vapor deposition | plasma-assisted CVD | plasma-activated chemical vapor deposition | PACVD | plasma-activated CVD


dépôt chimique en phase vapeur assisté par filament chaud | dépôt en phase vapeur assisté par filament chaud | dépôt chimique en phase vapeur assisté par un filament chaud | dépôt en phase vapeur assisté par un filament chaud

hot-wire chemical vapor deposition | HWCVD | hot-wire CVD | hot-filament chemical vapor deposition | HFCVD | hot-filament CVD


dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [ MOCVD | procédé MOCVD | traitement métallo-organique par dépôt chimique en phase vapeur | dépôt en phase vapeur à partir de composés organométalliques ]

metal organic chemical vapor deposition [ MOCVD | metal-organic chemical vapor deposition | metal organic chemical vapour deposition | metalorganic CVD | organometallic chemical vapour deposition ]


dépôt en phase vapeur interne | oxydation en phase vapeur interne | procédé d'oxydation en phase vapeur interne

inside vapour deposition process | inside vapour phase oxidation | inside vapour phase oxidation process | IV process | modified chemical vapour deposition process | IVPO [Abbr.]


évaporation sous vide [ dépôt en phase vapeur ]

vapor deposition [ vacuum evaporation | vapour deposition | vapor phase deposition ]


méthode modifiée de dépôt chimique en phase vapeur [ procédé de dépôt intérieur modifié ]

modified CVD method [ modified inside vapor phase oxidation process | modified chemical inside vapor phase oxidation process ]
TRADUCTIONS EN CONTEXTE
les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a importée dans l’Union, en indiquant les principales catégories d’applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux ...[+++]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour ...[+++]


10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs sont munis d’une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l’industrie des semi-conducteurs.

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector.


les quantités de chaque substance énumérée à l’annexe I et, le cas échéant, à l’annexe II, qu’il a mises sur le marché dans l’Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d’inhalateurs doseurs destinés à l’administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt ...[+++]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the ...[+++]


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10. Les gaz à effet de serre fluorés mis sur le marché pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs sont munis d'une étiquette indiquant que les substances présentes dans le conteneur peuvent uniquement être utilisées à cette fin.

10. Fluorinated greenhouse gases placed on the market for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector shall be labelled with an indication that the contents of the container may only be used for that purpose.


aux hydrofluorocarbones fournis directement par un producteur ou un importateur à une entreprise qui les utilise pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt en phase de vapeur par procédé chimique dans l'industrie des semi-conducteurs;

hydrofluorocarbons supplied directly by a producer or an importer to an undertaking using it for the etching of semiconductor material or the cleaning of chemicals vapour deposition chambers within the semiconductor manufacturing sector;


les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a importée dans l'Union, en indiquant les principales catégories d'applications dans lesquelles la substance est utilisée, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour destruction, utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux ...[+++]

the quantity of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has imported into the Union, identifying the main categories of application in which the substance is used, specifying separately quantities placed on the market for destruction, feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour ...[+++]


les quantités de chaque substance énumérée à l'annexe I et, le cas échéant, à l'annexe II, qu'il a mises sur le marché dans l'Union, en indiquant séparément les quantités mises sur le marché pour utilisation comme intermédiaire de synthèse, exportation directe, production d'inhalateurs doseurs destinés à l'administration de produits pharmaceutiques, utilisation dans des équipements militaires et utilisation pour la gravure de matériaux semi-conducteurs ou le nettoyage de chambres de dépôt ...[+++]

the quantities of each substance listed in Annex I and, where applicable, Annex II it has placed on the market in the Union, specifying separately quantities placed on the market for feedstock uses, direct exports, producing metered dose inhalers for the delivery of pharmaceutical ingredients, use in military equipment and use in the etching of semiconductor material or the cleaning of chemical vapour deposition chambers within the ...[+++]


«climatiseur», un appareil capable de refroidir et/ou de chauffer l'air intérieur par un cycle à compression de vapeur généré par un compresseur électrique, notamment, d'une part, les climatiseurs dotés de fonctions additionnelles, telles que la déshumidification, la purification, la ventilation ou le chauffage par résistance électrique d'appoint et, d'autre part, les appareils qui peuvent utiliser de l'eau (soit l'eau issue de la ...[+++]

‘air conditioner’ means a device capable of cooling or heating, or both, indoor air, using a vapour compression cycle driven by an electric compressor, including air conditioners that provide additional functionalities such as dehumidification, air-purification, ventilation or supplemental air-heating by means of electric resistance heating and appliances that may use water (either condensate water that is formed on the evaporator side or externally added water) for evaporation on the condensor, provided that the device is also able t ...[+++]


2. dépôt en phase vapeur (PVD) par chauffage par résistance assisté par faisceau d'ions, qui fait appel à des sources de chauffage par résistance électrique en combinaison avec un (des) faisceau(x) d'ions convergents afin de produire un flux contrôlé et uniforme du matériau évaporé;

2. Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;




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Dépôt en phase vapeur par chauffage par résistance ->

Date index: 2022-02-15
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