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Bistrato
Degrado della fascia di ozono
Degrado dello strato di ozono
Deterioramento dalla fascia di ozono
Deterioramento dello strato di ozono
Distruzione della fascia di ozono
Distruzione dello strato di ozono
Doppia pellicola
Doppio strato
Film depositato
Inquinamento stratosferico
Monostrato
Pellicola spessa
Piano di copertura
Riduzione della fascia di ozono
Riduzione dello strato di ozono
Rivestimento a spruzzo
Strato
Strato del popolamento
Strato depositato
Strato depositato con spruzzatura
Strato depositato mediante nebulizzazione di plasma
Strato dominante
Strato drenante
Strato filtrante
Strato monomolecolare
Strato singolo
Strato spesso
Strato spruzzato
Strato superiore

Traduction de «strato depositato » (Italien → Français) :

TERMINOLOGIE
voir aussi les traductions en contexte ci-dessous
strato depositato mediante nebulizzazione di plasma

couche déposée par pulvérisation de plasma


film depositato | strato depositato

couche déposée | couche mince déposée


rivestimento a spruzzo | strato depositato con spruzzatura | strato spruzzato

revetement par projection


monostrato | strato singolo | strato monomolecolare

monocouche | couche monomoléculaire


strato filtrante | strato drenante

couche d'infiltration | couche drainante


strato superiore (1) | piano di copertura (2) | strato dominante (3)

strate supérieure (1) | strate dominante (2) | étage supérieur (3)


strato | strato del popolamento

strate | strate du peuplement


inquinamento stratosferico [ degrado della fascia di ozono | degrado dello strato di ozono | deterioramento dalla fascia di ozono | deterioramento dello strato di ozono | distruzione della fascia di ozono | distruzione dello strato di ozono | riduzione della fascia di ozono | riduzione dello strato di ozono ]

pollution stratosphérique [ dégradation de la couche d'ozone | destruction de la couche d'ozone | détérioration de la couche d'ozone | réduction de la couche d'ozone ]




TRADUCTIONS EN CONTEXTE
uno strato di silice depositato tramite deposizione di vapore di spessore non superiore a 1 μm

une couche de silice appliquée par dépôt en phase vapeur d'une épaisseur n'excédant pas 1 μm


25. Ossido di piombo negli schermi al plasma (PDP) e negli schermi ad emissione di elettroni (surface conduction electron emitter displays — SED) utilizzato negli elementi strutturali come lo strato dielettrico depositato sul substrato anteriore e posteriore in vetro, l'elettrodo comune ("bus electrode"), la banda nera, l'elettrodo di indirizzamento, le costole di separazione, il sigillo realizzato in miscela vetrificabile (frit) e l'anello realizzato in pasta vetrificabile, nonché nelle paste per stampa.

25. L’oxyde de plomb utilisé dans les écrans plasma (PDP) et les écrans à émission d’électrons par conduction de surface (SED) pour les éléments structuraux tels que les couches diélectriques des verres avant et arrière, le bus électrode, les bandes noires, l’électrode d’adressage, les barrières, la fritte de verre de scellement et de queusot, ainsi que dans les pâtes d’impression.


25. Ossido di piombo negli schermi al plasma (PDP) e negli schermi ad emissione di elettroni (surface conduction electron emitter displays — SED) utilizzato negli elementi strutturali come lo strato dielettrico depositato sul substrato anteriore e posteriore in vetro, l'elettrodo comune ("bus electrode"), la banda nera, l'elettrodo di indirizzamento, le costole di separazione, il sigillo realizzato in miscela vetrificabile (frit) e l'anello realizzato in pasta vetrificabile, nonché nelle paste per stampa.

25. L’oxyde de plomb utilisé dans les écrans plasma (PDP) et les écrans à émission d’électrons par conduction de surface (SED) pour les éléments structuraux tels que les couches diélectriques des verres avant et arrière, le bus électrode, les bandes noires, l’électrode d’adressage, les barrières, la fritte de verre de scellement et de queusot, ainsi que dans les pâtes d’impression.


Ossido di piombo negli schermi al plasma (PDP) e negli schermi ad emissione di elettroni (surface conduction electron emitter displays — SED) utilizzato negli elementi strutturali come lo strato dielettrico depositato sul substrato anteriore e posteriore in vetro, l’elettrodo comune (“bus electrode”), la banda nera, l’elettrodo di indirizzamento, le costole di separazione, il sigillo realizzato in miscela vetrificabile (fritl) e l’anello realizzato in pasta vetrificabile, nonché nelle paste per stampa.

L’oxyde de plomb utilisé dans les écrans plasma (PDP) et les écrans à émission d’électrons par conduction de surface (SED) pour les éléments structuraux tels que les couches diélectriques des verres avant et arrière, le bus électrode, les bandes noires, l’électrode d’adressage, les barrières, la fritte de verre de scellement et de queusot, ainsi que dans les pâtes d’impression.


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Ossido di piombo negli schermi al plasma (PDP) e negli schermi ad emissione di elettroni (surface conduction electron emitter displays — SED) utilizzato negli elementi strutturali come lo strato dielettrico depositato sul substrato anteriore e posteriore in vetro, l’elettrodo comune (“bus electrode”), la banda nera, l’elettrodo di indirizzamento, le costole di separazione, il sigillo realizzato in miscela vetrificabile (fritl) e l’anello realizzato in pasta vetrificabile, nonché nelle paste per stampa.

L’oxyde de plomb utilisé dans les écrans plasma (PDP) et les écrans à émission d’électrons par conduction de surface (SED) pour les éléments structuraux tels que les couches diélectriques des verres avant et arrière, le bus électrode, les bandes noires, l’électrode d’adressage, les barrières, la fritte de verre de scellement et de queusot, ainsi que dans les pâtes d’impression.


a. La deposizione in fase di vapore di elementi chimici (CVD) è un processo di rivestimento per ricopertura o rivestimento con modifica della superficie per cui un metallo, una lega, un materiale "composito", un dielettrico o una ceramica è depositato su uno strato riscaldato.

a) Le dépôt en phase vapeur par procédé chimique (CVD) est un procédé de revêtement par recouvrement ou revêtement par modification de surface par lequel un métal, un alliage, un matériau "composite", un diélectrique ou une céramique est déposé sur un substrat chauffé.


a. tubi intensificatori di immagini focalizzati per prossimità aventi il fotocatodo depositato su un rivestimento conduttivo trasparente per diminuire la resistenza dello strato del fotocatodo;

a. tubes intensificateurs d'image réglée par proximité dont la photocathode est déposée sur un revêtement conducteur transparent pour réduire la résistance de la plaque/feuille de photocathode;


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